专利的获得方式是什么(如何获得专利？)

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专利的获得方式主要包括以下几种：发明创造：发明人或设计人通过自己的智力劳动，创造出一种新的技术方案、产品、方法等，并申请专利保护。实用新型专利：实用新型专利是指对产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案。实用新型专利的保护范围相对较小，通常只保护产品的形状和结构。外观设计专利：外观设计专利是指对产品的外观设计提出的新颖、独创、美观的设计。外观设计专利的保护范围相对较大，可以保护产品的外观形状、图案、色彩等。发明专利：发明专利是指对产品、方法或者其改进所提出的新思想、新概念、新技术等。发明专利的保护范围较大，可以保护产品、方法、过程等。植物新品种权：植物新品种权是指对植物品种的育种者授予的一种独占性权利。植物新品种权的保护范围较小，通常只保护植物品种本身。集成电路布图设计专有权：集成电路布图设计专有权是指对集成电路的布局设计给予的一种专有权利。集成电路布图设计的保护范围较小，通常只保护集成电路的布局设计。软件著作权：软件著作权是指对计算机程序及其相关文档给予的一种专有权利。软件著作权的保护范围较小，通常只保护计算机程序及其相关文档。

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专利的获得方式通常包括以下几种：发明创造：发明人或创新团队在研发过程中，通过实验、试验等方式，产生了新的技术方案或者产品。这些技术方案或产品具有新颖性、创造性和实用性，可以申请专利保护。实用新型专利：实用新型专利是指对产品的形状、结构或者其组合进行改进的技术方案。这种专利通常不涉及产品的制造方法，但可以申请专利保护。外观设计专利：外观设计专利是指对产品的外观形状、图案或者色彩等进行设计的技术方案。这种专利通常不涉及产品的制造方法，但可以申请专利保护。发明专利：发明专利是指对产品的方法或者其改进的技术方案进行发明创造的技术方案。这种专利通常需要经过实质审查，才能获得授权。植物新品种权：植物新品种权是指对植物品种进行育种、繁殖、栽培等技术方案的发明创造。这种专利通常需要经过实质审查，才能获得授权。集成电路布图设计专有权：集成电路布图设计专有权是指对集成电路的电路布局、连接方式等进行设计的技术方案。这种专利通常需要经过实质审查，才能获得授权。计算机软件著作权：计算机软件著作权是指对计算机程序、文档等进行创作、修改的技术方案。这种权利通常不需要经过实质审查，可以直接获得授权。

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专利的获得方式通常包括以下几种：发明创造：发明人或设计人通过自己的智力劳动，创造出新的技术方案、产品或方法，并申请专利保护。实用新型和外观设计：对于一些结构简单、易于制造的产品，可以通过申请实用新型或外观设计专利来保护其外观特征。发明专利：对于具有创新性的技术方案，可以申请发明专利。发明专利的保护期限为20年，自申请日起计算。植物新品种、集成电路布图设计等：这些领域的专利需要经过专门的审查程序，由国家知识产权局授权。国际专利申请：对于跨国界的发明创造，可以向世界知识产权组织（WIPO）提交国际专利申请，获得国际保护。联合申请：两个或多个申请人可以共同申请一项专利，共享专利权。优先权原则：申请人在其他国家或地区已经申请过相同主题的专利，可以在原申请的基础上提出新的专利申请，享有优先权。

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